反応性同時スパッタ法によるFe-Al-N系薄膜の作製とアニール効果 Reactive Co-sputter Deposition and Successive Annealing of Fe-Al-N Thin Film

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抄録

Reactive rf-sputter deposition was applied on Fe-Al-N ternary thin film deposition. New wurtzite-type solid solution of Al<SUB>1-x</SUB>Fe<SUB>x</SUB>N (x<30atm%) was observed on all as-deposited films. Defect rocked salt-type γ"-FeN coexisted in the films with composition above the solid solution limit. The as-deposited films were paramagnetic. Granular film where α-Fe dispersed in amorphous matrix was obtained by annealing of the films with chemical composition above the solid solution limit in H<SUB>2</SUB> flow at 500°C. They showed soft ferromagnetic behavior. Asdeposited film with composition below the solid solution limit was thermally stable in the annealing at 500°C.

収録刊行物

  • 粉体および粉末冶金  

    粉体および粉末冶金 44(7), 674-677, 1997-07-15 

    Japan Society of Powder and Powder Metallurgy

参考文献:  7件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002014242
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00222724
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    05328799
  • NDL 記事登録ID
    4258101
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-274
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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