スパッター成膜過程のモンテカルロ法による計算機シミュレーション Computer Simulation of Sputter-Deposition Processes by Monte Carlo Method

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収録刊行物

  • セラミックス

    セラミックス 33(10), 805-810, 1998-10-01

    日本セラミックス協会

参考文献:  42件中 1-42件 を表示

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  • Transport and Deposition Processes of Sputtered Particles in RF-Microwave Hybrid Sputtering Discharges

    Tuda Mutumi , Ono Kouichi , Yuuki Akimasa

    Jpn J Appl Phys 33(7B), 4473-4477, 1994-07-30

    応用物理学会 被引用文献2件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002017233
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00131516
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    0009031X
  • NDL 記事登録ID
    4575322
  • NDL 雑誌分類
    ZP9(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--セラミックス・窯業)
  • NDL 請求記号
    Z17-206
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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