回転塗布によるポジ型レジストの薄膜形成 基板寸法の影響 Thin-Film Formation of a Positive Photoresist by Spin Coating : Influence of Substrate Size

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著者

収録刊行物

  • 日本印刷学会誌  

    日本印刷学会誌 34(4), 263-271, 1997-07-31 

    日本印刷学会

参考文献:  8件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002021000
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10161648
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09143319
  • NDL 記事登録ID
    4324466
  • NDL 雑誌分類
    ZP48(科学技術--印写工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-491
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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