回転塗布によるポジ型レジストの薄膜形成 レジスト滴下量の影響 Thin-Film Formation of a Positive Photoresist by Spin Coating, Influence of the Dispensed Quantity

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著者

    • 矢田 俊雄 YADA Toshio
    • 三菱電気株式会社 先端技術総合研究所 Advanced Technology R & D Center, Mitsubishi Electric Corporation

収録刊行物

  • 日本印刷学会誌  

    日本印刷学会誌 35(5), 389-397, 1998-09-30 

    日本印刷学会

参考文献:  10件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002021601
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10161648
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09143319
  • NDL 記事登録ID
    4583763
  • NDL 雑誌分類
    ZP48(科学技術--印写工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-491
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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