LSI製造工程におけるウェハ洗浄技術の最近の動向と展望

• 平塚 豊

  (株)ダン科学

書誌事項

タイトル別名

• Technical Trend and Prospect for Wafer Cleaning on LSI Manufacturing Process

収録刊行物

• 空気清浄

  空気清浄 33 (5), 222-234, 1996-01-31

キーワード

• ウェハ
• 洗浄
• RCA洗浄
• 洗浄装置
• 室温洗浄
• 大口径ウェハ

詳細情報

• CRID: 1573105973900368768
• NII論文ID: 10002039373
• NII書誌ID: AN00065670
• ISSN: 00235032
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles