原子層堆積/成長法による軟X線多層膜ミラーの新展開 Recent Progress in Soft X-Ray Multilayer Mirrors through Atomic Layer Deposition/Epitaxy Methods

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

    • 熊谷 寛 KUMAGAI Hiroshi
    • 理化学研究所レーザー物理工学研究室 Laser Technology Laboratory, The Institute of Physical and Chemical Research(RIKEN)

抄録

A new approach to the fabrication of multilayer mirrors on an atomic scale at soft x-ray wavelengths is desired to overcome serious problems regarding scattering loss at the rough surface and interface of the multilayer. In this review, recent progress regarding novel approaches utilizing atomic layer deposition and atomic layer epitaxy to the fabrication of multilayer structures for soft x-ray wavelengths is detailed. These novel approaches are expected to solve the above-mentioned problems and take the place of conventional sputtering methods because of their control performance of the surface on an atomic scale through their self-limiting functions.

収録刊行物

  • レーザー研究  

    レーザー研究 25(5), 355-361, 1997-05-15 

    The Laser Society of Japan

参考文献:  40件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

被引用文献:  1件

被引用文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002043744
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00255326
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03870200
  • NDL 記事登録ID
    4227874
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1040
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
ページトップへ