Infrared Laser Isotope Separation of Silicon with Molecular Beam of Hexafluorodisilane.

• OKADA Yoshiki

  The Institute of Physical and Chemical Research (RIKEN)

• TAKEUCHI Kazuo

  The Institute of Physical and Chemical Research (RIKEN)

書誌事項

タイトル別名

• Infrared Laser Isotope Separation of Si

収録刊行物

• Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｎｕｃｌｅａｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（日本原子力学会英文論文誌）

  Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｎｕｃｌｅａｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（日本原子力学会英文論文誌） 34 (4), 413-415, 1997

  一般社団法人 日本原子力学会

キーワード

• laser isotope separation
• silicon
• hexafluorodisilane
• infrared multiphoton dissociation
• molecular beams
• free-jet expansion
• separation factor
• multi-photon ionization
• time-of-flight mass spectrometry

詳細情報

• CRID: 1390282679071586304
• NII論文ID: 10002077033
• NII書誌ID: AA00703720
• DOI: 10.3327/jnst.34.413
• COI: 1:CAS:528:DyaK2sXjsVaktbo%3D
• ISSN: 18811248
• ISSN: 00223131
• NDL書誌ID: 4196789
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4196789
• 本文言語コード: en
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles