プラズマイオン注入 -プラズマドーピング- Plasma Based Ion Inplatation -Plasma Doping-

この論文をさがす

著者

    • 水野 文二 MIZUNO Bunji
    • 松下電器産業(株)半導体研究センター Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd

収録刊行物

  • 高温学会誌  

    高温学会誌 22(3), 114-120, 1996-05-20 

    高温学会

参考文献:  20件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002082867
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00080051
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03871096
  • NDL 記事登録ID
    3959191
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学) // ZP2(科学技術--化学・化学工業--物理化学)
  • NDL 請求記号
    Z15-317
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
ページトップへ