合成石英ガラスのKrFエキシマレーザー誘起吸収特性 : 誘起吸収強度と200nmにおける内部吸収強度の関係 Characteristics of KrF-Excimer-Laser Induced Absorption in Synthetic Fused Silica : Relation Between Intensities of Induced Absorption and Internal Absorption at 200 nm

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著者

収録刊行物

  • レーザー研究  

    レーザー研究 26(2), 182-185, 1998-02-15 

    レ-ザ-学会

参考文献:  20件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002106189
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00255326
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    NOT
  • ISSN
    03870200
  • NDL 記事登録ID
    4413068
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1040
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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