電解法によるECD用イリジウム酸化物薄膜の作製 Preparation of Iridium Oxide Films for ECD by Electrodeposition

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  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 49(1), 20-24, 1998-01-01

    The Surface Finishing Society of Japan

参考文献:  14件中 1-14件 を表示

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    GOTTESFELD S.

    J. Appl. Phys. Lett. 33, 208, 1978

    被引用文献1件

  • <no title>

    GOTTESFELD S.

    J. Electrochem. Soc. 126, 742, 1979

    被引用文献2件

  • <no title>

    BENI G.

    J. Electrochem. Soc. 127, 1342, 1980

    被引用文献1件

  • <no title>

    KOTZ R.

    J. Electroanal. Chem. 296, 37, 1980

    被引用文献1件

  • <no title>

    KOTZ R.

    J. Electrochem. Soc. 131, 72, 1984

    被引用文献5件

  • <no title>

    BURK L. D.

    J. Electroanal. Chem. 162, 121, 1984

    被引用文献1件

  • <no title>

    PICKUP P. G.

    J. Electroanal. Cem. 220, 83, 1987

    被引用文献1件

  • <no title>

    BURK L. D.

    J. Electroanal. Chem. 117, 155, 1981

    被引用文献1件

  • <no title>

    吉野隆子

    表面科学 7, 480, 1987

    被引用文献1件

  • <no title>

    吉野隆子

    表面技術 41, 676, 1990

    被引用文献2件

  • <no title>

    YOSHINO T.

    Electrochromic Materials 90-2, 89-98, 1990

    被引用文献1件

  • <no title>

    吉野隆子

    表面技術 47, 985, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    YAMANAKA K.

    Japan J. Appl. Phys 28, 632, 1989

    被引用文献2件

  • <no title>

    YAMANAKA K.

    Japan J. Appl. Phys 30, 1285, 1991

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002108372
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    4367216
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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