液相析出法(LPD法 : Liquid Phase Deposition)による電子材料の作製 SiO_2 Film Deposited by Liquid Phase Deposition Method for Electronic Devices

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  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 49(1), 35-38, 1998-01-01

    The Surface Finishing Society of Japan

参考文献:  15件中 1-15件 を表示

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    DOI 被引用文献6件

キーワード

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002108417
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    4367219
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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