シリコンウエーハのウェット洗浄技術 Wet Cleaning Technology for Silicon Wafer

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  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 49(3), 242-247, 1998-03-01

    The Surface Finishing Society of Japan

参考文献:  30件中 1-30件 を表示

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    山本秀和

    応用物理 66, 662, 1997

    被引用文献6件

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    志村史夫

    半導体シリコン結晶工学 103, 1993

    被引用文献1件

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    ULSI生産技術緊急レポート委員会

    半導体メーカのウエハ洗浄仕様と問題点, 1, 1993

    被引用文献1件

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    KERN W.

    RCA Rev. 31, 187, 1970

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    The National Tech. Road Map for Semiconductor 1997, 1997

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    板野充司

    ウルトラクリーンテクノロジー 8, 156, 1996

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    下井規弘

    半導体メーカのウエハ洗浄仕様と問題点 79, 1993

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    RYUTA J.

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    井上直久

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    Proc. 2nd Int. Conf. Solid State Devices and Materials, the 145th Committee on Proceeding and Characterization of Crystals 418, 1996

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    YAMAMOTO H.

    Proc. 2nd Int. Conf. Solid State Devices and Materials, the 145th Committee on Proceeding and Characterization of Crystals 425, 1996

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    清水博文

    応用物理 66, 1320, 1997

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    桐野好生

    日経マイクロデバイス 96, 49, 1993

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    鹿島一日児

    応用物理 63, 1114, 1994

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    山本秀和

    応用物理 66, 667, 1997

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    栗原正巳

    クリーンテクノロジー 12, 37, 1996

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    IZUNOME K.

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    STOVER J.

    6th International Workshop on 300mm Diameter Wafer Specification, 1996

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    深澤雄二

    シリコンウエーハ表面のクリーン化技術 268, 1995

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    YOSHIMI T.

    Extended Abstract of the 175th Spring Meeting of Electrochem, Soc. 237, 1989

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    上村賢一

    応用物理 66, 1304, 1997

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    山下義典

    クリーンテクノロジー 9, 58, 1997

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    平塚豊

    ウルトラクリーンテクノロジー 8, 171, 1996

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    斎藤健

    第50回分析化学討論会講演要旨集2C04 219, 1989

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    徳岳文夫

    日経マイクロデバイス 138, 18, 1996

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    宮下真希

    第58回応用物理学会講演会講演予稿集1 3p-D-15, 770, 1997

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    久保和樹

    シリコンの科学 369, 1996

    被引用文献1件

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    速水直哉

    第42回応用物理学関係連合講演会講演予稿集2 706, 1995

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    青木秀充

    シリコンの科学 377, 1996

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002108684
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    4413774
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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