シリコン基板表面状態とゲート酸化膜の信頼性 Influence of Silicon Substrate Surface Condition on Gate Pxide Oeliability

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  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 49(3), 248-252, 1998-03-01

    The Surface Finishing Society of Japan

参考文献:  16件中 1-16件 を表示

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    堀内忠彦

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    築地優

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    冨田寛

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    大久保聡

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    NOHIRA H.

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    DOI 被引用文献1件

  • Microscopic structure of the SiO2/Si interface

    HIMPSEL F. J.

    Proc. Physical Review B 38, 6084-6096, 1988

    DOI 被引用文献94件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002108715
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    4413775
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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