塩酸／硫酸混合溶液中におけるアルミニウムの交流エッチング

• 菅沼 栄一

  山形県工業技術センター

• 丹野 裕司

  山形県工業技術センター

• 中野 正博

  山形県工業技術センター

• 梅津 勇

  山形県工業技術センター

書誌事項

タイトル別名

• AC Etching Characteristics of Aluminum in Hydrochloric/sulfuric Acid Solution.
• エンサン リュウサン コンゴウ ヨウエキチュウ ニ オケル アルミニウム ノ

抄録

The large specific surface area on a low voltage-use aluminum electrolytic capacitor electrode was produced by alternating-current etching in a chlorine solution. The effect of sulfuric acid added to the 3.6% hydrochloric acid solution etchant on etch morphology was examined by Auger spectroscopy, electron microscopy, and galvanovoltammetry. Electrostatic capacitance, pit size, and amount of aluminum hydroxide formed during etching at 1∼50Hz in 3.6%HCl/n%H₂SO₄(n=0∼1) solution at 333K were determined. A deeper etched porous layer was produced in a 3.6%HCl/0.25%H₂SO₄ solution than in a 3.6%HCl solution, with general dissolution prevented and surface film formation facilitated by the additive. The atomic ratio O/Al as calculated from the O (507eV) and Al-O (55eV) peaks of the surface film developed in a 3.6%HCl/0.25%H₂SO₄ solution is 1.8∼2.0 higher than 1.5 for the etched film in a 3.6%HCl solution.

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 49 (6), 643-648, 1998

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Aluminum
• AC Etching
• Capacitance
• Sulfuric Acid
• Film

詳細情報

• CRID: 1390282679091263616
• NII論文ID: 10002109654
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.49.643
• COI: 1:CAS:528:DyaK1cXjvV2gtLY%3D
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• ISSN: http://id.crossref.org/issn/09151869
• NDL書誌ID: 4502334
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4502334
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可