接触めっき法によるＦｅ‐Ｂ二元系アモルファス合金薄膜の作製と磁気特性

• 藤田 直幸

  大阪府立工業高等専門学校

• LIM P. B.

  Fac. of Eng., Saitama Univ.

• 牧野 栄治

  豊橋技術科学大学

• 井上 光輝

  東北大学電気通信研究所

• 荒井 賢一

  東北大学電気通信研究所

• 藤井 壽崇

  豊橋技術科学大学

書誌事項

タイトル別名

• Fabrication of Amorphous Fe-B Alloy Films by Contact Plating Method and Their Magnetic Properties.
• セッショクメッキ ホウ ニ ヨル Fe-B2ゲンケイ アモルファス ゴウキン

抄録

Fe-B amorphous alloy film was formed by means of contact plating method, in which Cu foils in contact with Al wires were used as substrates. Local battery configuration of the Cu foil anode and the Al wire cathode was responsible for film formation. The boron content in film was controlled from 0at% to 28at% by changing the KBH₄ concentration in the bath. The bath temperature strongly affected the crystallographic structure of resultant films. Fe₈₀B₂₀ amorphous films required a bath temperature below 40°C. Film structure and composition also affected magnetic properties. Film coercivity below 17Oe was also observed.

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 49 (7), 769-774, 1998

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Contact Plating
• Amorphous Fe-B Alloy
• Magnetic Property

詳細情報

• CRID: 1390282679092179584
• NII論文ID: 10002110011
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.49.769
• COI: 1:CAS:528:DyaK1cXksFOnsbY%3D
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• ISSN: http://id.crossref.org/issn/09151869
• NDL書誌ID: 4514780
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4514780
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可