セラミックスのフォトエッチングのための環化ポリブタジエンレジスト膜の形成条件 Formation of Cyclized Polybutadiene Resist Film for Ceramic Photoetching

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抄録

This paper describes the effects of conditions, such as prebaking length, exposure energy, and postbaking temperature, on polybutadiene resist film formation, when obtaining high chemical resistance to hot phosphoric acid etchant. After alumina ceramic was etched at temperatures from 260°C to 320°C, we measured the change in resist thickness, resist film breakdown ratio, and etch factors. Polybutadiene molecules are cross-linked both photolytically and pyrolytically, so postbaking critically affects the enhancing of the resist's thermal and chemical stability. Prebaking at 80°C for 30min, exposure at 7-9mJ/cm<sup>2</sup>, and postbaking at 300°C for 30min yielded a highly chemically resistant, strongly adhesive, optimal resist film. The etch factor increased with increasing etching temperature, probably due to decreased acid viscosity, becoming about 2 at an etching temperature of 300°C. At higher etching temperatures, however, the etch factor decreased and the resist breakdown ratio increased, indicating that the applicable maximum etching temperature was 300°C for the polybutadiene resist.

収録刊行物

  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 49(7), 775-780, 1998-07-01

    The Surface Finishing Society of Japan

参考文献:  13件中 1-13件 を表示

  • <no title>

    牧野英司

    精密工学会誌 55, 1103, 1989

    被引用文献2件

  • <no title>

    牧野英司

    表面技術 44, 796, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    MAKINO E.

    Precision Engineering 9, 153, 1987

    被引用文献2件

  • <no title>

    楢岡清威

    フォトエッチングと微細加工 18, 1977

    被引用文献1件

  • <no title>

    野々垣三郎

    微細加工とレジスト 11, 1987

    被引用文献1件

  • <no title>

    渡辺徹

    電子材料 119, 1978

    被引用文献1件

  • <no title>

    池田弘治

    高分子 29, 460, 1980

    被引用文献1件

  • <no title>

    渡辺徹

    石油と石油化学 27, 30, 1983

    被引用文献1件

  • <no title>

    AZUMA C.

    J. App. Polymer Sci. 29, 481, 1984

    被引用文献1件

  • <no title>

    讃井浩平

    日本ゴム協会誌 58, 35, 1985

    被引用文献1件

  • <no title>

    日本合成ゴム

    カタログJSR CBR-M901

    被引用文献1件

  • <no title>

    楢岡清威

    フォトエッチングと微細加工 66, 1977

    被引用文献1件

  • <no title>

    佐治孝

    工業化学雑誌 66, 528, 1963

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002110018
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    4514781
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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