電析法による軟Ｘ線縮小投影リソグラフィー用反射マスクの作製

• 村上 勝彦

  (株) ニコン 技術開発本部

書誌事項

タイトル別名

• Fabrication of Electroplated Reflection Masks for Extreme Ultraviolet Lithography.
• デンセキホウ ニヨル ナンXセン シュクショウ トウエイ リソグラフィーヨウ

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 49 (8), 849-853, 1998

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Nickel Electroplating
• Mask
• Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL)

詳細情報

• CRID: 1390001204115194880
• NII論文ID: 10002110200
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.49.849
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• NDL書誌ID: 4546126
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4546126
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles