金属の析出反応での電気化学的インピーダンスで観察される誘導性挙動の理論的解釈 Interpretation of Inductive Loop in Electrochemical Impedance during Metal Deposition

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抄録

The origin of inductive behavior in electrochemical impedance during metal deposition was discussed based on numerical analysis. Impedance was calculated by the modulation of adsorption coverage Δθ/Δ<i>E</i> as follows: 1/Z=A<sub>F</sub>+jωC<sub>dl</sub>, A<sub>F</sub>=a<sub>A1</sub>+a<sub>A2</sub> Δθ/ΔE, Δθ/ΔE=aθ1(jωa<sub>θ2</sub>+1), where <i>A</i><sub>F</sub> is admittance, <i>C</i><sub>dl</sub> capacitance of electric double layer, ω angular frequency, and <i>a</i><sub>i</sub> constant. Results of calculation indicate that the following adsorption processes are related to inductive behavior in metal deposition: (i) adsorbed intermediate in consecutive reaction, (ii) cathodic adsorbed species as catalyst, and (iii) anodic adsorbed inhibitor.

収録刊行物

  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan  

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 49(8), 900-904, 1998-08-01 

    The Surface Finishing Society of Japan

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002110343
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    4546115
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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