金属の析出反応での電気化学的インピーダンスで観察される誘導性挙動の理論的解釈

• 板垣 昌幸

  東京理科大学 理工学部

• 渡辺 邦洋

  東京理科大学 理工学部

• 小浦 延幸

  東京理科大学 理工学部

書誌事項

タイトル別名

• Interpretation of Inductive Loop in Electrochemical Impedance during Metal Deposition.
• キンゾク ノ セキシュツ ハンノウ デ ノ デンキ カガクテキ インピーダンス

抄録

The origin of inductive behavior in electrochemical impedance during metal deposition was discussed based on numerical analysis. Impedance was calculated by the modulation of adsorption coverage Δθ/ΔE as follows: 1/Z=A_F+jωC_dl, A_F=a_A1+a_A2 Δθ/ΔE, Δθ/ΔE=aθ1(jωa_θ2+1), where A_F is admittance, C_dl capacitance of electric double layer, ω angular frequency, and a_i constant. Results of calculation indicate that the following adsorption processes are related to inductive behavior in metal deposition: (i) adsorbed intermediate in consecutive reaction, (ii) cathodic adsorbed species as catalyst, and (iii) anodic adsorbed inhibitor.

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 49 (8), 900-904, 1998

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS)
• Inductive loop
• Deposition

詳細情報

• CRID: 1390001204115224064
• NII論文ID: 10002110343
• NII論文ID: 10007792972
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.49.900
• COI: 1:CAS:528:DyaK1cXltF2qt7o%3D
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• ISSN: http://id.crossref.org/issn/09151869
• NDL書誌ID: 4546115
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4546115
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可