3価クロムめっき浴からのCr-P-C合金めっき Electrodeposition of Cr-P-C Alloy Film from Trivalent Chromium Bath

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抄録

Electrodeposition of Cr-P-C alloy film from a trivalent chromium bath containing CrCl<sub>3</sub>, glycine, hypophosphite, and (NH<sub>4</sub>)<sub>2</sub>SO<sub>4</sub> as main components was studied using a double compartment cell separated by a cation exchange membrane. Bright Cr-P-C films with a maximum deposition current efficiency of 10% were obtained from a pH 1.0 bath at a current density of 16A/dm<sup>2</sup>. P content in the film increased to 20at% with increasing hypophosphite concentration in the bath, while C content was about 2at% throughout our plating conditions. X-ray diffraction showed that the as-deposited film was amorphous and crystallized in heat treatment exceeding 600°C, raising film hardness from 500HV to 1500HV.

収録刊行物

  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan  

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 49(9), 980-984, 1998-09-01 

    The Surface Finishing Society of Japan

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002110569
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    4557748
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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