スパッタ法による磁性膜作製におけるガス種の検討

• 中川 茂樹

  東京工業大学工学部

• 直江 正彦

  東京工業大学工学部

書誌事項

タイトル別名

• Effects of Sputtering Gas Species on Properties of Sputter-deposited Magnetic Thin Films.
• スパッタホウ ニ ヨル ジセイマク サクセイ ニ オケル ガスシュ ノ ケント

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 49 (10), 1078-1082, 1998

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Sputtering Gas
• Magnetic Thin Films
• Ion Scattering
• Facing Targets Sputtering
• Ion Beam Sputtering
• Recoiled Particles

詳細情報

• CRID: 1390001204115895808
• NII論文ID: 10002110795
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.49.1078
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• NDL書誌ID: 4579091
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4579091
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles