マイクロ波プラズマCVD法による表面酸化処理したクロム基板上でのダイヤモンドの合成 Synthesis of Diamond on Surface Oxidized Chromium Substrates by Microwave Plasma CVD Method

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抄録

The effects of oxide film on diamond deposition on Cr substrates oxidized at high temperature in air or at room temperature in nitric acid were studied using microwave plasma CVD. Diamond is effectively deposited when oxide film forms on the substrate. Deposited diamond density increased markedly, making diamond film when chemically passive film was formed on the substrate using nitric acid. Surface roughening was also effective in depositing diamond film.

収録刊行物

  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan  

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 49(11), 1203-1208, 1998-11-01 

    The Surface Finishing Society of Japan

参考文献:  8件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002111055
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    4603783
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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