三磁極マグネトロンスパッタリング法によるNi-Cr合金薄膜の作成 Formation of Ni-Cr Films by Tri-pole Magnetron Sputtering

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抄録

We studied thin Ni-Cr films deposited by Tripole Magnetron Sputtering (TMS) developed to provide enable composition control of deposited films. Ni-Cr films deposited at a substrate temperature of 200°C showed that their resistivity is influenced by their microstructure, reflected by sputtering conditions, whereas their composition is predominant in their temperature coefficient of resistivity.

収録刊行物

  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan  

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 50(1), 41-46, 1999-01-01 

    The Surface Finishing Society of Japan

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被引用文献:  4件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002111547
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    973104
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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