アンモニア‐アルカリ性水溶液からのＣｄＴｅ電析におよぼすアンモニア濃度の影響

• 邑瀬 邦明

  京都大学大学院工学研究科

• 中谷 巌

  京都大学大学院工学研究科

• 平藤 哲司

  京都大学大学院工学研究科

• 粟倉 泰弘

  京都大学大学院工学研究科

書誌事項

タイトル別名

• Effect of Ammonia Concentration on Electrodeposition of CdTe from Ammonia-alkaline Solutions.
• アンモニア アルカリセイ スイヨウエキ カラ ノ CdTeデンセキ ニ オヨボスアンモニア ノウド ノ エイキョウ

抄録

Electrodeposition of CdTe film from ammonia-alkaline aqueous solutions with different ammonia concentrations, [NH₃]_total=2.0-5.0mol dm^-3, was studied and deposition behavior at -0.70V vs SHE is discussed using a potential-pH diagram of the Cd-Te-NH₃-H₂O system in terms of underpotential deposition, where the deposition of Te atoms is followed by a rapid adsorption and reduction of Cd (II) species to form CdTe We found that the composition of the resulting film is controlled by ammonia concentration as well as by the pH and Cd (II)/Te (IV) concentration ratio, as previously been studied. The cadmium content of the resulting film increases with decreasing ammonia concentration of solutions An electrolyte with a Cd (II)/Te (IV) concentration ratio of 1, for example, gave a tellurium-rich deposit with low crystallinity under [NH₃]_total of 5.0mol dm^-3, while that with the same Cd(II)/Te(IV) ratio gave almost stoichiometric CdTe under [NH₃]_total of 3.0mol dm^-3

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 50 (4), 367-373, 1999

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Cadmium Telluride
• Compound Semiconductor
• Under-potential Deposition
• Potential-pH Diagram
• Deposition Mechanism

詳細情報

• CRID: 1390282679092416384
• NII論文ID: 10002112218
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.50.367
• COI: 1:CAS:528:DyaK1MXisVCrtbw%3D
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• ISSN: http://id.crossref.org/issn/09151869
• NDL書誌ID: 4707961
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4707961
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可