走査トンネル顕微鏡によるシリコン固相エピタキシー過程の観察 Solid-Phase Epitaxy Processes of Amorphous Si Layers on Si Substrates Studied by Scanning Tunneling Microscopy

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収録刊行物

  • 表面科学  

    表面科学 16(2), 105-112, 1995-02-10 

参考文献:  11件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002114893
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • データ提供元
    CJP書誌 
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