金属シリサイド技術の現状と課題 Recent Developments and Issues in Metal Silicide Technology

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 表面科学  

    表面科学 16(4), 224-232, 1995-04-10 

参考文献:  80件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

被引用文献:  1件

被引用文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002115230
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用 
ページトップへ