チタン・シリサイドプロセスにおける構造相転移の問題について C49-to-C54 Phase Transition in TiSi_2 Process

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抄録

LSI製造に用いられるシリサイドプロセスでは, 固相反応によりセルフアライン構造を形成できることが大きなメリットになっている。このセルフアライン構造にシリサイドを形成する方法はサリサイド (SALICIDE : Self-aligned silicide) 技術と呼ばれている。ここでは2段階熱処理法による, 一般的なチタンサリサイドの製造方法を説明し, さらにこのチタンシリサイドプロセスで発生する層抵抗増大の原因解析において, 構造相転移に着目したシリサイド物性研究の一端を解説する。

収録刊行物

  • 表面科学  

    表面科学 16(4), 233-237, 1995-04-10 

    The Surface Science Society of Japan

参考文献:  24件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002115311
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • データ提供元
    CJP書誌  J-STAGE 
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