Special Issue on Recent Progress in Transition-Metal Silicide Technology. C49-to-C54 Phase Transition in TiSi2 Process.

• MATSUBARA Yoshihisa

  ULSI Laboratories, NEC Corporation

• HORIUCHI Tadahiko

  ULSI Laboratories, NEC Corporation

• OKUMURA Koichiro

  ULSI Laboratories, NEC Corporation

Bibliographic Information

Other Title

• 特集　高融点金属シリサイドに関する最近の話題　チタン・シリサイドプロセスにおける構造相転移の問題について

Abstract

LSI製造に用いられるシリサイドプロセスでは, 固相反応によりセルフアライン構造を形成できることが大きなメリットになっている。このセルフアライン構造にシリサイドを形成する方法はサリサイド (SALICIDE : Self-aligned silicide) 技術と呼ばれている。ここでは2段階熱処理法による, 一般的なチタンサリサイドの製造方法を説明し, さらにこのチタンシリサイドプロセスで発生する層抵抗増大の原因解析において, 構造相転移に着目したシリサイド物性研究の一端を解説する。

Journal

• Hyomen Kagaku

  Hyomen Kagaku 16 (4), 233-237, 1995

  The Surface Science Society of Japan

Details

• CRID: 1390282681431805696
• NII Article ID: 10002115311
• NII Book ID: AN00334149
• DOI: 10.1380/jsssj.16.233
• ISSN: 18814743
• ISSN: 03885321
• Web Site: http://www.jstage.jst.go.jp/article/jsssj1980/16/4/16_4_233/_pdf
• Text Lang: ja
• Data Source:
  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles
• Abstract License Flag: Disallowed