シリサイド化反応とコンタクト特性 Silicidation Reactions and Contact Characteristics at Transition Metal/Silicon Interfaces

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  • 表面科学

    表面科学 16(4), 244-250, 1995-04-10

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002115350
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • データ提供元
    CJP書誌 
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