低エネルギーイオン照射によるSiの原子層エッチング Atomic-Layer Etching of Si by Low Energy Ion Irradiation

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著者

    • 松浦 孝 MATSUURA Takashi
    • 東北大学電気通信研究所 超高密度・高速知能システム実験施設 Laboratory for Electronic Intelligent Systems, Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
    • 室田 淳一 MUROTA Junichi
    • 東北大学電気通信研究所 超高密度・高速知能システム実験施設 Laboratory for Electronic Intelligent Systems, Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University

収録刊行物

  • 表面科学  

    表面科学 16(6), 346-352, 1995-06-10 

参考文献:  20件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002115672
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • データ提供元
    CJP書誌 
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