HFによる酸化物除去に伴うSi(111)表面の疎水化過程 Formation of Hydrophobic Surface on Si(111)in Aqueous Hydrofluoric Immersion Process

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収録刊行物

  • 表面科学  

    表面科学 16(8), 521-529, 1995-08-10 

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002116099
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03885321
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用 
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