Si表面でのO_2分子線散乱で生成脱離するSiOの振動回転分布 Rovibrational State Distribution of SiO Desorbed from a Silicon Surface during O_2 Molecular Beam Scattering

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  • 表面科学

    表面科学 16(9), 583-586, 1995-09-10

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002116303
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03885321
  • データ提供元
    CJP書誌 
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