原子間力顕微鏡(AFM)によるフォトレジスト膜表面の摩擦挙動解析 (周期パターンの歪検出方式) Friction Analysis for Photoresist Thin Film Surface by using Atomic Force Microscopy (Distortion analysis of periodical hole pattern)

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著者

    • 河合 晃 KAWAI Akira
    • 長岡技術科学大学 工学部 電気系 Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology

収録刊行物

  • 日本接着学会誌 = Journal of the Adhesion Society of Japan

    日本接着学会誌 = Journal of the Adhesion Society of Japan 33(12), 465-471, 1997-12-01

    日本接着学会

参考文献:  20件中 1-20件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002120127
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10341672
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09164812
  • NDL 記事登録ID
    4353997
  • NDL 雑誌分類
    ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-134
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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