超先端電子技術開発機構におけるレーザー計測法によるエッチングプラズマ中の解離化学種解析 Analyses of Radicals in Etching Plasma Using Laser Spectroscopy in Association of Super-Advanced Electronics Technologies

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著者

    • 板橋 直志 ITABASHI Naoshi
    • 技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室 Plasma Technology Laboratory, Association of Super-Advanced Electronics Technologies(ASET)
    • 林 久貴 HAYASHI Hisataka
    • 技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室 Plasma Technology Laboratory, Association of Super-Advanced Electronics Technologies(ASET)
    • 辰巳 哲也 [他] TATSUMI Tetsuya
    • 技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室 Plasma Technology Laboratory, Association of Super-Advanced Electronics Technologies(ASET)
    • 沖川 満 OKIGAWA Mitsuru
    • 技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室 Plasma Technology Laboratory, Association of Super-Advanced Electronics Technologies(ASET)
    • 中川 秀夫 NAKAGAWA Hideo
    • 技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室 Plasma Technology Laboratory, Association of Super-Advanced Electronics Technologies(ASET)
    • 井上 正巳 INOUE Masami
    • 技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室 Plasma Technology Laboratory, Association of Super-Advanced Electronics Technologies(ASET)

収録刊行物

  • レーザー研究  

    レーザー研究 26(6), 426-432, 1998-06 

    レ-ザ-学会

参考文献:  25件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002249527
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00255326
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03870200
  • NDL 記事登録ID
    4511844
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1040
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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