超精密軟X線光学系の開発と応用 -EUVリソグラフィ- Development and Application of Highly Precise X-Ray Optics -EUV Lithography-

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著者

    • 木下 博雄 KINOSHITA Hiroo
    • 姫路工業大学高度産業科学技術研究所 Himeji Institute of Technology, Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry

収録刊行物

  • レーザー研究  

    レーザー研究 27(1), 20-24, 1999-01 

    レ-ザ-学会

参考文献:  4件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002251153
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00255326
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03870200
  • NDL 記事登録ID
    1524936
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1040
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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