SF₆ プラズマを用いた平坦な表面の得られるシリコンの高速等方性ドライエッチング

• 峯田 貴

  山形県工業技術センター

• 菅沼 栄一

  山形県工業技術センター

書誌事項

タイトル別名

• Isotropical Dry Etching of Silicon with High Rate and Planarized Surface by Using SF6 Plasma.

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 47 (4), 378-379, 1996

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Isotropical Dry Etching
• Silicon
• SF₆
• High Rate
• Surface Planarization

詳細情報

• CRID: 1390282679091866368
• NII論文ID: 10002256207
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.47.378
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• 本文言語コード: en
• データソース種別:
  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles