半導体と真空装置 Vacuum Equipment in Semiconductor Device Manufacturing

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  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 48(11), 1043-1049, 1997-11-01

    The Surface Finishing Society of Japan

参考文献:  6件中 1-6件 を表示

  • <no title>

    実用真空便覧 40, 1990

    被引用文献1件

  • <no title>

    清田哲司

    月刊Semiconductor World (9), 136, 1991

    被引用文献1件

  • <no title>

    松沢昭生

    半導体工業における汚染防除技術 147, 1982

    被引用文献1件

  • <no title>

    権田俊一

    月刊Semiconductor World (11), 96, 1992

    被引用文献1件

  • <no title>

    平野健吉

    センサー技術 2, 1987

    被引用文献1件

  • <no title>

    WASSERMAN Y.

    Semiconductor International 184, 1996

    被引用文献1件

被引用文献:  1件中 1-1件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002260120
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    4334589
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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