マルチメディア時代における真空装置と薄膜応用　　ｃａｔ‐ＣＶＤ法を用いた薄膜堆積と半導体表面改質

• 和泉 亮

  北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科

• 松村 英樹

  北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科

書誌事項

タイトル別名

• Vacuum Equipment and Application for Thin Film in the Multimedia. Deposition of Thin Films and Surface Modification of Semiconductors Using cat-CVD System.
• マルチメディア デバイス ノ サイゼンセン cat-CVDホウ オ モチイタ

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 48 (11), 1082-1087, 1997

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• cat-CVD
• Hot-wire CVD
• Amorphous-silicon
• Poly-silicon
• Silicon-nitride
• Low Temperature Deposition
• Low Temperature Nitridation

詳細情報

• CRID: 1390282679092613760
• NII論文ID: 10002260197
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.48.1082
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• NDL書誌ID: 4334597
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4334597
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles