cat-CVD法を用いた薄膜堆積と半導体表面改質 Deposition of Thin Films and Surface Modification of Semiconductors Using cat-CVD System

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著者

    • 和泉 亮 IZUMI Akira
    • 北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科 JAIST (Japan Advanced Inst. of Sci. and Technology)

収録刊行物

  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan  

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 48(11), 1082-1087, 1997-11-01 

    The Surface Finishing Society of Japan

参考文献:  16件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002260197
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    4334597
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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