アモルファス窒化ケイ素の微粒化に及ぼすTiO_2添加効果とその微粒化機構 Effect of TiO_2 on Grain Refining of Amorphous Si_3N_4 and the Grain-refined Mechanism

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著者

    • 河合 千尋 KAWAI Chihiro
    • 住友電気工業(株)伊丹研究所無機材料研究部 Itami Research Laboratories, Sumitomo Electric Industries, Ltd.
    • 松浦 尚 MATSUURA Takashi
    • 住友電気工業(株)伊丹研究所無機材料研究部 Itami Research Laboratories, Sumitomo Electric Industries, Ltd.
    • 朴 辰珠 [他] PARK Jin-Joo
    • 住友電気工業(株)伊丹研究所無機材料研究部 Itami Research Laboratories, Sumitomo Electric Industries, Ltd.
    • 山川 晃 YAMAKAWA Akira
    • 住友電気工業(株)伊丹研究所無機材料研究部 Itami Research Laboratories, Sumitomo Electric Industries, Ltd.

抄録

Amorphous Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>/TiO<SUB>2</SUB> compacted bodies were heated at 1490°C, for 1 to 10 hr under N<SUB>2</SUB> pressures of 0.92 and 1000 atm, and the effect of N<SUB>2</SUB> pressure on the resulting grain refining was investigated, to clarify the role of TiO<SUB>2</SUB> in the grain-refined mechanism. Thermodynamic calculation performed prior to experiments indicated that high N<SUB>2</SUB> pressure inhibited the formation of SiO gas and new formation of Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB> by its re-nitridation. Crystallized phases after heating were α-Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>, Si<SUB>2</SUB>N<SUB>2</SUB>O and TiN. Although both N<SUB>2</SUB> pressures formed the fine grains having a diameter of about 30 nm, high pressure accelerated the grain refining and crystallization of amorphous Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB> to a-Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>. From these results, the fine grains were considered to be formed not through re-nitridation of SiO gas but through crystallization of amorphous Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>.

収録刊行物

  • 粉体および粉末冶金  

    粉体および粉末冶金 44(10), 963-969, 1997-10-15 

    Japan Society of Powder and Powder Metallurgy

参考文献:  18件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002261593
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00222724
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    05328799
  • NDL 記事登録ID
    4324262
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-274
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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