ヘリコンスパッタ法により作製したTiO_2/SiO_2多層膜の微細構造および光学特性 Optical and Structural Characterization of TiO_2/SiO_2 Multilayer Films Prepared by Helicon Plasma Sputtering

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抄録

Alternating TiO<SUB>2</SUB>/SiO<SUB>2</SUB> multilayer optical films were fabricated on BK7 glass and Si (100) substrates by helicon plasma sputtering at room temperature. Optical and structural characterization of monolayers of TiO<SUB>2</SUB> and SiO<SUB>2</SUB> films, and their multilayers have been performed. The results of structural analysis show that the TiO<SUB>2</SUB> and SiO<SUB>2</SUB> films have a homogeneous and amorphous microstructure. Auger electron spectroscopy (AES) and transmission electron microscopy (TEM) observations reveal that TiO<SUB>2</SUB>/SiO<SUB>2</SUB> multilayer films have well-defined interface. Five layers of alternating TiO<SUB>2</SUB> and SiO<SUB>2</SUB> exhibit maximum reflectance of 87% around the central wavelength of 800 nm which agrees well with the theoretical result.

収録刊行物

  • 粉体および粉末冶金  

    粉体および粉末冶金 46(2), 180-184, 1999-02-15 

    Japan Society of Powder and Powder Metallurgy

参考文献:  14件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002261881
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00222724
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    05328799
  • NDL 記事登録ID
    4655572
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-274
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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