Si(001)におけるGeデルタドープ層の挙動 -TOF-LEISによる観察- Behavior of Geδ-doped Layer in Si(001)Observed by TOF-LEIS

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収録刊行物

  • 表面科学

    表面科学 18(7), 394-398, 1997-07

    日本表面科学会

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002264616
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    4246954
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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