電子分光法による酸化シリコン測定時のダメージについて Electron Beam and Ion Beam Irradiation Damage of Silicon Oxide Films during AES and XPS Analysis

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著者

収録刊行物

  • 表面科学  

    表面科学 18(8), 473-477, 1997-08 

    日本表面科学会

参考文献:  9件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002264860
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    4266100
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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