振動分光法で観察したアモルファスシリコン系 半導体の水素の表面化学 Chemistry of Surface Hydrogen on Amorphous Silicon Semiconductors Monitored by Vibrational Spectroscopy

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著者

    • 豊島 安健 TOYOSHIMA Yasutake
    • 電子技術総合研究所薄膜シリコン系太陽電池スーパーラボ Electrotechnical Laboratory, Thin Film Si Solar Cells Super Lab.

収録刊行物

  • 表面科学

    表面科学 18(9), 564-569, 1997-09

    日本表面科学会

参考文献:  12件中 1-12件 を表示

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    応用物理学会編

    アモルファスシリコン, 1993

    被引用文献1件

  • <no title>

    WADAYAMA T.

    Jan. J. Appl. Phys. 27, 501, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    TOYOSHIMA Y.

    Appl. Phys. Lett. 56, 1540, 1990

    被引用文献15件

  • <no title>

    TOYOSHIMA Y.

    Thin Solid Films 234, 367, 1993

    被引用文献2件

  • <no title>

    Jacob P.

    J. Chem. Phys. 95, 2897, 1991

    被引用文献2件

  • <no title>

    ITABASHI N.

    Jpn.J.Appl.Phys. 29, L505, 1990

    被引用文献19件

  • <no title>

    GANGULY G.

    Jpn. J. Appl. Phys. 31, L1269, 1992

    被引用文献4件

  • <no title>

    YOSHIGOE A.

    Appl. Phys. Lett. 67, 2364, 1995

    被引用文献12件

  • <no title>

    豊島安健

    電子技術総合研究所研究報告第979号, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    TOYOSHIMA Y.

    J.Non-Cryst.Solids 137&138, 765, 1991

    DOI 被引用文献10件

  • <no title>

    TOYOSHIMA Y.

    J.Non-Cryst.Solids 164-166, 103, 1993

    DOI 被引用文献3件

  • <no title>

    TOYOSHIMA Y.

    J. Non-Cryst. Solids 198-200, 1042, 1996

    DOI 被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002265084
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    4292537
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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