ガスクラスターイオンビームによる表面エッチング A New Sputter Etching Technology by Gas-Cluster Ion Beam

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著者

    • 山田 公 YAMADA Isao
    • 京都大学工学部附属イオン工学実験施設 Ion Beam Engineering Experimental Laboratory, Kyoto University
    • 松尾 二郎 MATSUO Jiro
    • 京都大学工学部附属イオン工学実験施設 Ion Beam Engineering Experimental Laboratory, Kyoto University
    • 青木 学聡 AOKI Takaaki
    • 京都大学工学部附属イオン工学実験施設 Ion Beam Engineering Experimental Laboratory, Kyoto University
    • INSEPOV Zinetulla
    • 京都大学工学部附属イオン工学実験施設 Ion Beam Engineering Experimental Laboratory, Kyoto University

収録刊行物

  • 表面科学  

    表面科学 18(12), 743-751, 1997-12-10 

    日本表面科学会

参考文献:  31件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002265615
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    4352374
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
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