純オゾンビームの発生とシリコン極薄酸化膜作製への応用 Generation of High-purity Ozone Beam and Its Application to the Formation of Ultra-thin Silicon Dioxide Film

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  • 表面科学

    表面科学 18(12), 766-774, 1997-12-10

    日本表面科学会

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002265734
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    4352377
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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