金属/シリコン初期界面の水素誘起自己組織化 Atomic-Hydrogen-Induced Self-Organization Processes of Metal/Si Surface Phases

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著者

    • 柳 正鐸 RYU Jeong-tak
    • 大阪大学工業学部電子工学科 Department of Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Osaka University
    • 久保 理 [他] KUBO Osamu
    • 大阪大学工業学部電子工学科 Department of Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Osaka University
    • Alexander A. SARANIN
    • Institute of Automation and Control Processes Institute of Automation and Control Processes
    • Andrey V. ZOTOV
    • Institute of Automation and Control Processes Institute of Automation and Control Processes

収録刊行物

  • 表面科学  

    表面科学 19(9), 579-587, 1998-09 

    日本表面科学会

参考文献:  30件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002266029
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    4557983
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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