低加速スパッタエッチングによる酸化物/基板界面のXPS精密分析 XPS Depth Profiling of Oxide Film/Substrate Interface Using Low Energy Sputtering

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著者

収録刊行物

  • 表面科学  

    表面科学 19(9), 593-597, 1998-09 

    日本表面科学会

参考文献:  12件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002266079
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    4557985
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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