シリコン表面におけるGa細線の形成とその特性

• 橋詰 富博

• 平家 誠嗣

• 一杉 太郎

Bibliographic Information

Other Title

• シリコン ヒョウメン ニ オケル Gaサイセン ノ ケイセイ ト ソノ トクセ
• 特集:STM,AFMリソグラフィーによる半導体微細プロセスの現状
• トクシュウ STM AFM リソグラフィー ニ ヨル ハンドウタイ ビサイ プ

Abstract

コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会

Journal

• 表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編

  表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編 19 (11), 716-721, 1998-11

  東京 : 日本表面科学会

Details

• CRID: 1521417755138894976
• NII Article ID: 10002266406
• NII Book ID: AN00334149
• ISSN: 03885321
• NDL BIB ID: 4600398
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4600398
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles