表面構造のエピタキシャル成長におよぼす影響 -Si(111)-7×7表面上のSiホモエピタキシャル成長を例に- Influence of Surface Structure on Epitaxial Growth -An Example of Homoepitaxial Growth on Si(111)-7×7 Substrate-

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収録刊行物

  • 表面科学

    表面科学 19(12), 831-838, 1998-12-10

    日本表面科学会

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  • <no title>

    BURTON W. K.

    Phil. Tran. Roy. Soc. A243, 299, 1951

    被引用文献1件

  • <no title>

    大川章哉

    応用物理学選書2"結晶成長", 1977

    被引用文献1件

  • <no title>

    TAKAYANAGI K.

    Surf. Sci. 164, 367, 1985

    被引用文献39件

  • <no title>

    SHIGETA Y.

    Phys. Rev. B51, 2021, 1995

    被引用文献3件

  • <no title>

    SHIGETA Y.

    J. Cryst. Growth 166, 617, 1996

    被引用文献3件

  • <no title>

    SHIGETA Y.

    Surface Review and Letters 5, 865, 1988

    被引用文献1件

  • <no title>

    HOSHINO M.

    Surf. Sci. 365, 29, 1996

    被引用文献6件

  • <no title>

    LEWIS B.

    Crystal Growth 16, 35, 1980

    被引用文献1件

  • <no title>

    VOIGTLANDER B.

    Phys. Rev. Lett. 77, 3861, 1996

    被引用文献2件

  • <no title>

    MIKI K.

    Ultramicroscopy 42, 851, 1992

    DOI 被引用文献16件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002266858
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    4622641
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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