3. 工業利用 3. 3イオンビーム蒸着による薄膜形成 3. 3 Formation of thin films by low energy ion beam deposition.

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著者

    • 永井 士郎 NAGAI Siro
    • 日本原子力研究所先端基礎研究センター Advanced Science Research Center, Japan Atomic Energy Research Institute

収録刊行物

  • Radioisotopes

    Radioisotopes 44(9), 667-672, 1995-09

    日本アイソト-プ協会

参考文献:  10件中 1-10件 を表示

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    J. Appl. Phys. 42, 2953, 1971

    DOI 被引用文献69件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002391760
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00351589
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    00338303
  • NDL 記事登録ID
    3623684
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学) // ZN36(科学技術--原子力工学・工業) // ZP2(科学技術--化学・化学工業--物理化学) // ZS45(科学技術--医学--放射線医学)
  • NDL 請求記号
    Z15-20
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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